二流体晶圆清洗机

1 、设备概况

1.1应用领域：半自动单片清洗机是高洁净度清洗设备, 具有药液清洗，高速甩干，快速烘干，效率高的特点，不同晶圆尺寸，可通过快速更换甩干头来实现。其主要用于兼容4-12寸晶圆半导体晶圆、掩膜板、各种基片等材料的刷洗干燥工艺。具有成本低，快速应用生产等优点。

1.2名称：半自动单片清洗机

1.3型号：SQX-150-5Y1D

2 、主要结构特征

半自动单片清洗机主要伺服电机，供药系统，PLC控制器，高洁净阀门，PFA管等部分组成。

2.1材质：进口PP板，能够满足洁净室工作环境。

2.2专用伺服电机，可实现每分钟5-5000转，低速均匀清洗，高速离心甩干。

2.3工业PLC控制器和人机界面，稳定可靠控制各个部件，直观可视化操作模式。