晶体生长设备
VGF单晶炉（晶体生长炉）
VGF单晶炉（晶体生长炉）采用垂直梯度凝固（VGF）工艺，主要用于2～6英寸锗单晶、砷化镓、碲锌镉等化合物晶体的生长。一…
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甩干设备
Semitool SRD甩干机（双腔室）
一、设备概况晶圆甩干机是高洁净度冲洗甩干设备，具有高洁净冲洗、高速甩干、快速烘干、效率高的特点，不同晶圆尺寸可通过快速更…
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清洗设备
晶圆下片机（无接触式）
一、设备概况1.1 应用领域：适用于晶圆抛光后，陶瓷盘上晶圆实现无接触式下片。1.2 名称：无接触式晶圆下片机1.3 型…
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晶体生长设备
多晶炉（晶体生长炉）
一、设备概况1.1 设备用途：晶体材料生长设备。1.2 VGF、HB、HGF、VB产品特点：1.2.1 用于GaAs等化…
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加工设备
梅耶博格内圆锯（TS23翻新机）
此设备为梅耶博格TS23翻新机。部件及性能特点1.1 整机电气系统更换，采用工业级PLC控制及触摸屏控制，性能更优越；1…
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清洗设备
晶圆下片台（QDR清洗台）
晶圆下片台（QDR清洗台）用于晶圆抛光下片与清洗操作，集成花洒、水枪、QDR槽及溢流净化等功能。布局设置1. 左侧花洒，…
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甩干设备
单片晶圆清洗甩干机（12寸/8寸）
一、设备概况单片晶圆甩干机是高洁净度甩干设备，具有高速甩干、快速烘干的特点，不同晶圆尺寸可通过快速更换甩干头来实现。是湿…
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加工设备
手动晶圆倒角机
数控晶圆倒角机是一种精密的半导体生产设备，专门用于对硅晶圆、碳化硅或蓝宝石等材料的晶圆进行精确的边缘倒角处理，以消除切割…
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净化设备
多功能洁净清洗台（FFU净化台）
多功能洁净清洗台（FFU净化台）集成高效净化送风与清洗操作功能，适用于半导体晶圆、光电器件等制程中的清洗、检测与净化操作…
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清洗设备
全自动单片晶圆清洗机
全自动单片晶圆清洗机采用先进的清洗技术和自动化控制系统，能够在无尘环境中对单个晶圆进行高效且精确的清洗处理。该设备通常包含晶圆传输系统、化学溶液供给系统、超纯水冲洗系统、干燥系统等主要组成部分。
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清洗设备
手动单片清洗甩干机
单片清洗甩干机是高洁净度清洗甩干设备，具有高速甩干、快速烘干、效率高的特点，不同晶圆尺寸可通过快速更换甩干头来实现。主要用于兼容2-4寸半导体晶圆、掩膜板、各种基片等材料的刷洗干燥工艺。
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甩干设备
晶圆甩干机（6/8寸）
晶圆甩干机是高洁净度冲洗甩干设备，具有高洁净冲洗、高速甩干、快速烘干、效率高的特点，不同晶圆尺寸可通过快速更换转子来实现，是湿法清洗工艺的主要设备。
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甩干设备
单片甩干机
单片甩干机是高洁净度清洗甩干设备，具有高速甩干、快速烘干、效率高的特点，不同晶圆尺寸可通过快速更换甩干头来实现，是湿法清洗工艺的主要设备，体型小运行平稳。
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配套工具
防水型真空吸笔
耐水真空吸笔专为晶圆湿法清洗制程设计，耐水耐酸碱耐溶剂，PTFE 无粉尘材质，单片硅片、磷化铟砷化镓衬底无损拾取，适配清洗机配套上下料，多种吸头规格可定制。
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清洗设备
二流体晶圆清洗机
主营二流体晶圆清洗机、掩膜版清洗机、光刻板清洗机、晶圆去胶清洗机，高压气液喷淋去除纳米颗粒，湿法化学剥离光刻胶，无损清洗光罩光刻图形，适配 4-12 寸硅片、化合物衬底。
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检测设备
进口晶片强光灯（晶圆检测灯）
QG-150/QG-250 用于 SI、GaAs、Ge、玻璃等表面瑕疵检查的照明光源，微小瑕疵也可被检测出来，是高标准检测工具。用于硅片、磷化铟、砷化镓晶片外观检查，快速识别颗粒、划痕、污渍缺陷。
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甩干设备
EFEM专用清洗甩干机
EFEM专用清洗甩干机（SG-8-12-2D），专为设备前端模块EFEM集成配套，支持晶圆自动上下料与SECS-GEM通信，2~12英寸晶圆高速离心甩干+双面氮气烘干。
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清洗设备
磷化铟清洗机（半自动单片清洗机）
半自动单片清洗机是高洁净度清洗设备，具有药液清洗、高速甩干、快速烘干、效率高的特点，不同晶圆尺寸可通过快速更换甩干头来实现。主要用于兼容4-12寸半导体晶圆、掩膜板、各种基片等材料的刷洗干燥工艺。
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